Volframa izsmidzināšanas mērķis
2. Katalogs: volframa produkts
3. Materiāls: volframs
4. tīrība: lielāka vai vienāda ar 99,95%
5. Blīvums: 19,3 g\/cm³
6. forma: plaknes mērķis, rotējošais mērķis, izsmidzinošs mērķis, kvadrātveida mērķis, caurules mērķis, pielāgots mērķis ar neregulāru formu.
7. Specifikācija: pielāgots, mērķa svars ir mazāks vai vienāds ar 300 kg\/datoriem.
8. Virsma: auksti velmēta virsma, ķīmiski notīrīta virsma, pulēta virsma
9. Pielietojums: magnetrona stutēšanas pārklājums
10. Standarts: ASTM B760, GB\/T 3875-83
11. Izcelsmes vieta: Luoyang, Ķīna.
Ievads
Volframa izsmidzināšanas mērķis ir augstas tīrības materiāli, ko izmanto sputterēšanas procesā, fizikālā tvaika nogulsnēšanās (PVD) metode, ko izmanto, lai novietotu plānas plēves uz virsmām. Volframs ir metāls, kas pazīstams ar savu augsto kušanas punktu (aptuveni 3422 grādiem), cietību un lielisko elektrisko vadītspēju, padarot to par ideālu materiālu dažādu nozaru, piemēram, elektronikas, optikas un pusvadītāju ražošanā.
Funkcijas
Lieliska izturība pret augstu temperatūru
Volframa kušanas temperatūra ir līdz 3422 grādiem, piešķirot tai izcilu izturību pret augstu temperatūru. Turklāt sprādziena laikā volframa mērķis var izturēt augstas enerģijas jonu bombardēšanu un nav viegli deformēts vai degradēts. Tas ļauj volframa mērķim stabili darboties augstas temperatūras un augstas enerģijas vidē.
Izturība pret koroziju
Volframa materiāliem ir laba oksidācija un izturība pret koroziju. Augstas temperatūras vai ķīmiskās vides vidē volframa spridzinātais mērķis var efektīvi pretoties oksidēšanai, skābei un sārmu korozijai, nodrošinot, ka mērķis ir labs veiktspēja vairāku izsmidzināšanas procesu laikā.
Plašs lietojumu klāsts
Mūsu produkti tiek plaši izmantoti pusvadītājos, optoelektronikā, magnētiskos materiālos un citos laukos. Pusvadītāju nozarē integrēto shēmu metalizācijas procesā tiek izmantotas volframa plānas plēves. Optiskā laukā volframa plānas plēves tiek izmantotas, lai ražotu atstarotājus vai pārklājumu materiālus.
Produkta ķīmiskais sastāvs
|
Volframa mērķa ķīmiskā sastāvs |
|||||||||||||||
|
W Apmierināts (%) |
Piemaisījumu saturs (PPM) |
||||||||||||||
|
Ti |
Na |
C |
CA |
Mg |
Si |
Al |
Kā |
Fe |
Ni |
Pbe |
P |
Cu |
/ |
/ |
|
|
Lielāks vai vienāds ar 99,95% |
Mazāks vai vienāds ar 10 ppm |
Mazāk vai vienāds ar 5 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 20 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 10 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 7ppm |
Mazāk vai vienāds ar 10 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 5 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 10 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 10 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 6 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 1 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 8 PPM |
Mazāk vai vienāds ar 5 PPM |
/ |
/ |
Produkta veiktspējas parametri
|
Volframa izsmidzināšana mērķa veiktspējas parametri |
|
|
Parauga izmēri |
12 mm × 80mm × 100mm |
|
Tīrība |
Lielāks vai vienāds ar 99,95% (3n5) |
|
Kristāla struktūra |
Uz ķermeni vērsts kubiskais (BCC) |
|
Graudu izmērs |
43μm |
|
Blīvums |
19,25 g\/cm3 (gūžas) |
|
Kušanas punkts |
3410 grāds (+ 20 grāds) |
|
Vārīšanās punkts |
5900 grāds |
|
Siltumvadītspēja |
173 W/(m·K) |
|
Elektriskā vadītspēja |
18.3×10-6 S/m |
|
Termiskās izplešanās koeficients |
4.5×10-6/K-1 |
|
Cietība |
HV5: 280-310 |
|
Virsmas apdare |
Ra mazāks vai vienāds ar 0. 4μm |
Produktu ražošanas process
Populāri tagi: Volframa stuterizācijas mērķis, Ķīna Volframa sprādziena mērķa ražotāji, piegādātāji, rūpnīca
Jums varētu patikt arī
Nosūtīt pieprasījumu