Molibdēna staršošanas mērķis
2.Catalog: molibdēna produkts
3. Materiāls: tīrs molibdēns
4. Drošība: Mo lielāks vai vienāds ar 99,95%
5.Densitāte: 10,22 g\/cm3
6.Sapstrāde: apaļa, kvadrātveida, caurule, plāksne, stienis, taisnstūris
7.type: plakani mērķi, rotējošs mērķis, apaļš mērķis, plāksnes mērķis, plakans mērķis, pielāgots mērķis ar neregulāru formu.
8.Sabrukšanas tehnika: pulvera metalurģijas process, saķepināts, kalšana, ritēšana, apstrāde.
9.Pieteikšanās: vakuuma spridzināšanas pārklājums, plakanā paneļa displeji, CIGS saules bateriju elektrodi un elektroinstalācijas materiāli, pusvadītāju barjeras slāņa materiāli.
10. Izcelsmes vieta: Luoyang, Ķīna
Ievads
Molibdēna izsmidzināšanas mērķis ir metāla mērķa materiāls, kas galvenokārt sastāv no augstas tīrības pakāpes molibdēna (MO) un tiek izmantots vakuuma pārklājuma tehnoloģijās, piemēram, magnetrona stuterēšanai. Tas "izšļakstīs" virsmas atomus zem augstas enerģijas daļiņu bombardēšanas un nogulsnējas uz pamatnes, veidojot plānu plēvi.
Priekšrocības
1. Lieliska augsta tīrība un blīvums
Molibdēna izsmidzināšanas mērķi ir izgatavoti no augstas tīrības pakāpes molibdēna materiāliem (MO lielāki vai vienādi ar 99,95%). Izejvielas tiek stingri pārbaudītas un kontrolētas piemaisījumi, lai pārliecinātos, ka molibdēna atomu izdalīšanās process vakuuma izspiešanas laikā nesatur piemaisījumu atomus, tādējādi efektīvi nodrošinot nogulsnētās plēves tīrību un funkcionālo sniegumu. Turklāt mērķa blīvums var sasniegt 10,22 g\/cm³, kas ir tuvu molibdēna teorētiskajam blīvumam. Augsts blīvums ne tikai palīdz uzlabot izspiešanas efektivitāti un plēves veidošanās ātrumu, bet arī pagarina mērķa kalpošanas laiku un samazina tādu kvalitātes problēmu biežumu kā izdedži un plaisas.
2. Papildu ražošanas process
Molibdēna mērķi ražošanas procesā izmanto pulvera metalurģijas veidošanas tehnoloģiju, apvienojumā ar vairākiem soļiem, piemēram, karstu kalšanu, ritēšanu un precīzu apstrādi, lai nodrošinātu organizatoriskās struktūras vienveidību un stabilitāti. Šīs procesa metodes var efektīvi kontrolēt materiāla graudu lielumu un mehāniskās īpašības, tādējādi uzlabojot mērķa strukturālo integritāti un termisko pretestību ilgtermiņa lietošanai.
3. Plaša lietojumprogrammu pielāgošanās spēja
Pirmkārt, vakuuma spridzināšanas pārklājuma tehnoloģijā molibdēna mērķi bieži tiek izmantoti metāla plēvju nogulsnēšanai. Viņi var pielāgoties dažādām magnetrona izspiešanas sistēmām un procesa prasībām, lai atbilstu dažādu pārklājumu funkcionālajām prasībām. Otrkārt, plakanā paneļa displeja tehnoloģijā molibdēna materiāli tiek plaši izmantoti, lai sagatavotu aizmugures elektrodu slāņus, piemēram, OLED un TFT-LCD, ar stabilu plēves veidojošu veiktspēju un elektrisko veiktspēju. Molibdēna mērķi ir piemēroti arī CIGS plānu filmu saules bateriju elektrodu slānim, īpaši to aizmugurējās elektrodu struktūrā. Molibdēna slāņa augstā vadītspēja palīdz uzlabot enerģijas pārveidošanas efektivitāti.
Produkta specifikācija
|
MolibdēnsSdestilācijaTargetētSpecifikācija |
|||||
|
ProduktsIerakstīt |
Biezums/Diametrs(mm) |
Platums(mm) |
Garums(mm) |
Roughness (mm) |
Pieteikums |
|
Molibdēna plakanais mērķis |
1.5-40 |
1.0-2500.00 |
1.0-4000.00 |
Ra 0. 2-6. 4 |
Piemērots G 3- G10.5 paaudzes TFT pārklājuma aprīkojums |
|
Molibdēna rotējošais mērķis |
120-170 |
/ |
3500 |
Ra 0. 2-6. 4 |
|
|
TdestilācijaREsultiNoMolibdēnsTargetētUieslodzītSdestilācijaNogulsnes |
||||
|
Produkts |
Mērķa jaudas blīvums (ar cm2) |
Substrāta temperatūra (grāds) |
Filmas veidošanās ātrums (A · M\/min) |
Īpaša pretestība@2000a (μωcm) |
|
Mo mērķis |
5.0 |
100.0 |
342.8 |
11.7 |
Populāri tagi: Molibdēna sputtera mērķis, Ķīna molibdēna sputninga mērķa ražotāji, piegādātāji, rūpnīca
Nākamo
Molibdēna paplāteJums varētu patikt arī
Nosūtīt pieprasījumu